表面處理設備
RotoVAC 旋轉真空等離子處理設備
產(chǎn)品特征:
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·安裝簡(jiǎn)單，使用簡(jiǎn)便 ·處理時(shí)間短 ·標準或定制化的處理倉 ·真空度 ·無(wú)需工藝氣體 ·控制處理過(guò)程 ·節約成本 ·真空下的等離子處理 |
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標準和定制化的真空等離子處理設備
Tantec的RotoVAC等離子處理設備用于處理小型注塑部件，無(wú)需放在支架上或使用復雜的搬運機構。RotoTEC采用旋轉的圓桶式設計，將處理產(chǎn)品放在圓桶中，再將圓桶放入真空腔體中旋轉便可以均勻的處理到產(chǎn)品所有表面。
在等離子電極放電前，處理倉里會(huì )出現一個(gè)1至4mbar的真空，因此處理時(shí)間的非常短，根據產(chǎn)品的材質(zhì)和結構，一般在20-180s之間。
RotoVAC等離子處理設備具有操作簡(jiǎn)單、生產(chǎn)可靠性高、處理速度快等特點(diǎn)?？墒褂脷?/span>氣或氧氣等工藝氣體，但是大多數情況下，等離子放電產(chǎn)生的高能量就可以大大提高物體表面能量，因此無(wú)需再使用這些工藝氣體。
RotoVAC采用先進(jìn)的HV-X系列的放電發(fā)生器，等離子變壓器根據電極進(jìn)行設計，并為其提供高壓。圓桶的旋轉可保證每個(gè)產(chǎn)品得到處理。另可多配一個(gè)圓桶，以便輪流使用。
特點(diǎn)：
·安裝簡(jiǎn)單，使用簡(jiǎn)便 連接電源和壓縮的空氣即可。
·處理時(shí)間短 根據產(chǎn)品材質(zhì)和結構，一般在20-180s內即可完成。
·標準或定制化的處理倉 處理倉和圓桶的大小可根據實(shí)際應用進(jìn)行設計，一般情況下
是標準的處理倉。
·真空度 根據實(shí)際應用，真空度一般在1-4mbar。
·無(wú)需工藝氣體 可使用氧氣和氬氣等工藝氣體，但大多數情況下無(wú)需使用
這些工藝氣體。
·控制處理過(guò)程 等離子整個(gè)過(guò)程是由HV-X系列放電發(fā)生器和PLC裝置進(jìn)行控制。
觸摸面板上顯示了所有控制參數（標準——proface）
·節約成本 由于能耗低，不需特殊的工藝氣體，該套設備大大節約了成本，
是改善物體表面潤濕性和粘合性的最佳方法。
·真空下的等離子處理 可處理導電和非導電的物體表面。
